Siliziumkarbid Polierplatten
Geringe Deformation durch niedrige thermische Verteilung, hohe chemische Beständigkeit, große Auswahl an Oberflächenprofilen.Siliziumkarbid Polierplatten zeichnen sich aus durch minimale Verformung dank hoher thermischer Leitfähigkeit, niedrigen thermischen Ausdehnungkoeffizienten, hohen Steifheitsgrad sowie gleichmäßige Temperaturverteilung. Weitere Merkmale sind die exzellente chemische Beständigkeit sowie Oberflächenoptionen mit konkaven, flachen und konvexen Profilen.
Merkmale
Hohe Elastizitätskonstante
Geringe Wärmeausdehnung
Hohe Wärmeleitfähigkeit
Chemische Beständigkeit
Thermische Homogenität
Produktspezifikationen
- Material
- Siliziumkarbid
- Form
- Konvexe, flache sowie konkave Formen verfügbar.
- Größe
- MAXφ30"
- Genauigkeit
- Ebenheit: 1um oder weniger
Anwendungen
- Polieren von Wafern