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Heat Dissipation Structure Ceramic Substrates

Elektrostatische Spannvorrichtungen (Chucks)

Elektrostatische Chucks: plasmabeständig und einsetzbar bei unterschiedlichsten Betriebstemperaturen.

In die Keramik ist eine Elektrode eingesintert. Mittels dieser baut sich eine elektrostatische Kraft zwischen dem Chuck und der Silizumscheibe auf. Einsatzgebiete im Halbleiterfertigungsprozess sind Clampen, Ebenheitskorrektur und Kühlung.

Merkmale

Plasmabeständigkeit

Produktspezifikationen

Material
Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid
Größe
Geeignet für φ 200/300mm Geräte

Anwendungen

  • Clampen von Siliziumscheiben / Ebenheitskorrektur / Kühlung

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