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Heat Dissipation Structure Ceramic Substrates

Hochtemperaturheizer

Hochleistungsheizer mit hoher thermischer Leitfähigkeit und Plasmabeständigkeit.

Heizer für Siliziumscheiben aus Aluminiumnitrid eignen sich hervoragend für Prozesskammern aufgrund der hohen thermischen Leitfähigkeit und Plasmabeständigkeit. Sie haben einen Reinheitsgrad von über 99,9% und eine gleichmäßige Wärmeverteilung.

Merkmale

Hohe Wärmeleitfähigkeit Plasmabeständigkeit Thermische Homogenität

Produktspezifikationen

Material
Aluminiumnitrid
Größe
Geeignet für φ 200/300mm Geräte

Anwendungen

  • Heizer für Si-Wafer bzw. Scheiben

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